電鍍銅工藝設(shè)備概念股票有哪些?最新電鍍銅工藝設(shè)備龍頭股上市公司一覽表
日期:2022-08-22 13:08:26 來源:互聯(lián)網(wǎng)
電鍍銅:去銀化新型技術(shù),助力N 型時代降本光伏電池概念股成本差異主要體現(xiàn)在非硅成本,在N 型電池時代,銀漿占成本比重提升明顯。低銀化和去銀化成行業(yè)降本重要方向,除銀包銅等新型漿料外,激光轉(zhuǎn)印、電鍍銅等金屬化工藝逐步進(jìn)入產(chǎn)業(yè)化量產(chǎn)階段。電鍍銅制備銅柵線替代傳統(tǒng)絲網(wǎng)印刷銀漿的電極化方式,提效降本優(yōu)勢明顯:1)銅柵線電阻率一般比銀柵線低2-3 倍,且電極形態(tài)較好,線寬可以做到20μm 以下,能夠降低電極遮擋損耗和接觸損耗。2)通過柵線材料的變化,直接解決光伏電池片成本中銀漿成本占比較高的問題,對N 型電池降本效應(yīng)更為突出。同時,雙面電鍍制造效率明顯提升。
技術(shù)工藝:包括種子層制備、圖形化和電鍍,技術(shù)路徑多樣電鍍銅核心環(huán)節(jié)包括種子層制備、圖形化工藝龍頭股和電鍍及后處理工序。目前種子層制備仍是電鍍銅必要工序,具體工藝而言,制備方式包括:1)采用PVD 或者化學(xué)鍍的形式來實現(xiàn)大面積沉積;2)近年來,技術(shù)龍頭股或向種子層選擇性制備方向變革,可通過激光轉(zhuǎn)印+摻雜的方式實現(xiàn)。種子層可改善電極與TCO 膜附著性能,常見的種子層包括鎳鍍層、銅鎳鍍層和銅鎳銀三鍍層等。
圖形化為電鍍銅的核心工藝環(huán)節(jié),技術(shù)路徑包括激光、光刻等方式。圖形化主要通過對掩膜的選擇性刻蝕,形成掩膜-種子層-掩膜的交替排列結(jié)構(gòu),銅離子僅在種子層暴露處沉積,從而形成特定排列的電極。目前圖形化工藝主要包括光刻(掩膜光刻、激光直寫)、激光(激光開槽、激光轉(zhuǎn)印+摻雜)等方式。1)基于PCB 的圖形化工藝是在種子層沉積感光膠層,對特定區(qū)域曝光可采用底片(傳統(tǒng)曝光)、掩膜或激光直寫技術(shù)。相較傳統(tǒng)曝光,激光直寫在精度、自動化水平等方面具有優(yōu)勢;2)區(qū)別于沉積感光膠層作為掩膜,氮化硅等薄膜本身即兼顧介電層和掩膜功能,可以通過激光開槽等方式來實現(xiàn)圖形化工藝,同時也可以采用激光概念股方案進(jìn)行種子層選擇性制備。圖形化工藝為光伏電鍍銅核心工藝環(huán)節(jié),技術(shù)難度和壁壘較高,并且圖形化環(huán)節(jié)設(shè)備在光伏電鍍銅產(chǎn)線投資額占比較高,或超過后道電鍍及后處理設(shè)備。在圖形化技術(shù)工藝中,激光的方案或更加適合光伏電池大規(guī)模量產(chǎn)要求,逐步導(dǎo)入量產(chǎn)階段。
電鍍環(huán)節(jié)影響電極概念股均勻性。電鍍環(huán)節(jié)需要重點關(guān)注一致性和均勻性等問題。電鍍環(huán)節(jié)設(shè)備主要包括水平電鍍和垂直電鍍。垂直電鍍技術(shù)成熟,但電極均勻性相對較差。而水平電鍍設(shè)備技術(shù)相對先進(jìn),較好地改善電鍍不均勻等問題,但設(shè)備工藝復(fù)雜,設(shè)備價值量或較高,需定期檢修更換組件且對人工及系統(tǒng)操作提出更高要求。
趨勢展望:量產(chǎn)逐步推進(jìn),圖形化和電鍍環(huán)節(jié)設(shè)備價值量可觀從設(shè)備端看,銅電鍍需要在現(xiàn)有產(chǎn)線額外增加種子層沉積設(shè)備、圖形化設(shè)備、電鍍設(shè)備等,新增設(shè)備投資預(yù)計1-1.5 億元/GW。目前,電鍍銅工藝已開始逐步導(dǎo)入量產(chǎn)階段,當(dāng)前布局研發(fā)電鍍銅工藝的公司包括隆基綠能、通威股份等,同時,愛旭股份也在布局無銀化技術(shù)。2021 年下半年以來國內(nèi)電鍍銅工藝設(shè)備驗證及量產(chǎn)化應(yīng)用持續(xù)推進(jìn)目前布局電鍍銅各工藝環(huán)節(jié)設(shè)備的公司除捷佳偉創(chuàng)、邁為股份提供部分設(shè)備外,在核心圖形化環(huán)節(jié)設(shè)備廠商包括帝爾激光、芯?微裝;電鍍設(shè)備公司包括東威科技、捷德寶、太陽井等。2021 年下半年以來國內(nèi)電鍍銅工藝設(shè)備概念股量產(chǎn)化驗證持續(xù)推進(jìn)。
風(fēng)險提示
1、電鍍銅工藝量產(chǎn)化進(jìn)度不及預(yù)期;
2、電鍍銅工藝滲透不及預(yù)期。
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